vapor-phase epitaxy

См. также в других словарях:

• vapor-phase epitaxy — garinė epitaksija statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. vapor phase epitaxy vok. Dampfphasenepitaxie, f; Epitaxie aus der Dampfphase, f rus. эпитаксия из паровой фазы, f pranc. épitaxie en phase vapeur, f …   Radioelektronikos terminų žodynas

• vapor-phase epitaxy wafer — garinės epitaksijos plokštelė statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. vapor phase epitaxy wafer vok. Dampfphasenepitaxiewafer, m rus. пластина с эпитаксиальным слоем из паровой фазы, f pranc. tranche d épitaxie en phase vapeur, f …   Radioelektronikos terminų žodynas

• metallo-organic vapor-phase epitaxy — garinė metalo ir organinio junginio epitaksija statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. metallo organic vapor phase epitaxy vok. metallorganische Gasphasenepitaxie, f rus. эпитаксия металлоорганического соединения из паровой фазы, f… …   Radioelektronikos terminų žodynas

• vapor levitation epitaxy — garinė epitaksija ant plūduriųjų plokštelių statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. vapor levitation epitaxy vok. Dampfphasenepitaxie auf dem Levitationszustandswafer, f rus. эпитаксия из паровой фазы на плавающих пластинах, f pranc …   Radioelektronikos terminų žodynas

• Epitaxy — refers to the method of depositing a monocrystalline film on a monocrystalline substrate. The deposited film is denoted as epitaxial film or epitaxial layer. The term epitaxy comes from a Greek root ( epi above and taxis in ordered manner ) which …   Wikipedia

• Chemical vapor deposition — DC plasma (violet) enhances the growth of carbon nanotubes in this laboratory scale PECVD apparatus. Chemical vapor deposition (CVD) is a chemical process used to produce high purity, high performance solid materials. The process is often used in …   Wikipedia

• Depot chimique en phase vapeur — Dépôt chimique en phase vapeur Le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l anglais chemical vapor deposition) est une méthode de dépôt de films minces, à partir de précurseurs gazeux. Sommaire 1 Principe 2 Variantes du dépôt chimique en… …   Wikipédia en Français

• Dépôt Chimique En Phase Vapeur — Le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l anglais chemical vapor deposition) est une méthode de dépôt de films minces, à partir de précurseurs gazeux. Sommaire 1 Principe 2 Variantes du dépôt chimique en phase vapeur 3 …   Wikipédia en Français

• Deposición de vapor mediante procesos químicos organometálicos — La epitaxia metalorgánica en fase de vapor (del inglés, Metalorganic vapour phase epitaxy MOVPE) es un método de deposición química vaporosa con el que se produce un crecimiento epitaxial de ciertos materiales, en concreto de los compuestos… …   Wikipedia Español

• Dépôt chimique en phase vapeur — Le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l anglais chemical vapor deposition) est une méthode de dépôt sous vide de films minces, à partir de précurseurs gazeux. Sommaire 1 Principe 2 Variantes du dépôt chimique en phase vapeur 3 …   Wikipédia en Français

• Chemical vapor deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… …   Deutsch Wikipedia